%0 Journal Article %A 郭为 %A 韩晓英 %A 齐涛 %A 曲景奎 %A 王京刚 %A 余志辉 %T 铬酸钠溶液中微量铝硅杂质的脱除 %D 2011 %R %J 过程工程学报 %P 590-594 %V 11 %N 4 %X 采用铝硅含量分别为189.65和51.08 mg/L的铬酸钠配制溶液,通过常压和高压反应脱除杂质微量铝硅. 常压下加入偏铝酸钠调节体系铝硅元素比为6,无需CaO添加剂,60℃下反应40 min,几乎可完全脱除杂质硅;在高压釜中通过调节CO2压力为0.4 MPa,60℃下反应20 min,几乎能完全脱除杂质铝. 化学纯铬酸钠脱除铝硅杂质后能达到分析纯级别. 高压釜内脱铝的同时铬酸钠发生碳化反应,溶液pH值随反应进行逐渐降低,趋于稳定,显示碳化反应近于平衡. %U https://www.jproeng.com/CN/abstract/article_171.shtml