›› 2011, Vol. 11 ›› Issue (4): 590-594.
郭为 余志辉 王京刚 曲景奎 齐涛 韩晓英
GUO Wei YU Zhi-hui WANG Jing-gang QU Jing-kui QI Tao HAN Xiao-ying
摘要: 采用铝硅含量分别为189.65和51.08 mg/L的铬酸钠配制溶液,通过常压和高压反应脱除杂质微量铝硅. 常压下加入偏铝酸钠调节体系铝硅元素比为6,无需CaO添加剂,60℃下反应40 min,几乎可完全脱除杂质硅;在高压釜中通过调节CO2压力为0.4 MPa,60℃下反应20 min,几乎能完全脱除杂质铝. 化学纯铬酸钠脱除铝硅杂质后能达到分析纯级别. 高压釜内脱铝的同时铬酸钠发生碳化反应,溶液pH值随反应进行逐渐降低,趋于稳定,显示碳化反应近于平衡.
中图分类号: