›› 2011, Vol. 11 ›› Issue (2): 239-243.
王雅静 李宏亮 庞常健 翟玉春 张征
WANG Ya-jing LI Hong-liang, PANG Chang-jian ZHAI Yu-chun ZHANG Zheng
摘要: 研究了不同阴离子(SO42-, CO32-, Cl-)对铝酸钠溶液深度脱硅的影响. 通过对Na2SO4, Na2CO3和NaCl用量、反应温度、时间、Al2O3浓度、溶液苛性比ak、搅拌速度影响的考察,确定了最佳工艺条件. 在95℃, Al2O3 150 g/L, ak=1.5及搅拌速度867 r/min条件下脱硅110 min后,铝酸钠溶液中硅量指数达2938,在杂质用量30 g/L时,含SO42-, CO32-, Cl-溶液的硅量指数分别可达3943, 3545和3221. 在阴离子浓度为0~70 g/L时,SO42-促进溶液深度脱硅,CO32-, Cl-均先促进后抑制脱硅,通过硅渣XRD衍射分析,得到了SO42-, CO32-, Cl-对脱硅影响的变化规律.