›› 2017, Vol. 17 ›› Issue (1): 64-68.DOI: 10.12034/j.issn.1009-606X.216254
郭加欣1,张巧玲1,刘有智2,畅俊波1
GUO Jia-xin 1,ZHANG Qiao-ling 1,LIU You-zhi 2,CHANG Jun-bo 3
摘要: 将粒子成像测速(PIV)技术应用于旋转盘反应器,获得了旋转盘表面流场的瞬时速度分布,研究了操作参数(流量和转速)对流场速度分布的影响. 结果表明,从盘中心到边缘瞬时速度先减小后增大;转盘中心区域的速度场主要由流量控制,流体的相对径向速度随流量增大而增大;转盘外缘区域的速度场主要由转速控制,流体的相对周向速度随转速增大而增大;实验条件下临界半径Rc=50 mm,转盘设计半径应适当大于临界半径.
中图分类号: